Копировальная рама малого формата в настольном исполнении. Предназначена для экспонирования офсетных печатных пластин актиничным излучением коротковолновой части спектра. Источник излучения находится в верхней части конструкции. Для защиты оператора зона облучения закрывается в процессе работы шторами, не пропускающими излучение. Необходимый прижим создается двухступенчатой системой вакуумирования, с раздельной установкой степени прижима. На панели расположен пульт управления для установки текущего время экспонирования и интенсивности облучения. Также возможно задание дополнительного времени экспонирования за светорассеивающей пленкой.
Дополнительно рама оснащается лампой на 3 кВт.
Технические характеристики TaShiang CPU51-1 T
Рабочий формат
550х650 мм
Тип прижима
вакуумный
Источник и тип излучения -
метал-галогенидная лампа
Мощность источника излучения
1 кВт
Программируемых каналов -
60
Масса
50 кг
Электропитание
220 В, 50 Гц, 25 А
Габариты
983х760х1100 мм
Комментарии пользователей
Количество комментариев: 0
Комментариев пока нет.
Объявления из данной категории:
CTP Heidelberg Prosetter 74
CTP Heidelberg Prosetter 74
год выпуска 2004,
УФ лазерr (410 nm, 30 mW),
разрешение максимальное 3.386 dpi,
производительность 20 формчас
размер форм мини 370 x 323 to
размер форм макс 670 x 750 mm,
использовалась для полимерных форм
находилась на обслуживании инженерами Heidelberg...
Система CTP Fuji Luxel T 9000 Online
Мы предлагаем только что поступившую в продажу следующую систему СТР в отличном состоянии (оборудование эсплуатировалось с договором о полном сервисном обслуживании)
Система CTP Fuji Luxel T 9000 Online
аналогична Screen PT-T 8000
Год выпуска: 11/1999, запуск в эксплуатацию: март 2000...
Screen Katana FT-R5055
KaufPrint предлагает из немецкой типографии ФНА Screen Katana FT-R5055, выпуск: декабрь 2004 года. Формат 575 мм. (ширина). Разрешение (max.) 3000 dpi...
Копировальная рама малого формата в настольном исполнении. Предназначена для экспонирования офсетных печатных пластин актиничным излучением коротковолновой части спектра. Источник излучения находится в верхней части конструкции. Для защиты оператора зона облучения закрывается в процессе работы шторами, не пропускающими излучение. Необходимый прижим создается двухступенчатой системой вакуумирования, с раздельной установкой степени прижима. На панели расположен пульт управления для установки текущего время экспонирования и интенсивности облучения. Также возможно задание дополнительного времени экспонирования за светорассеивающей пленкой.
Дополнительно рама оснащается лампой на 3 кВт.
Комментарии пользователей